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Micron Document

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<title>Novolak</title>

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<h1 id="firstHeading" class="firstHeading mw-first-heading"><span class="mw-page-title-main">Novolak</span></h1>

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<div id="mw-content-text" class="mw-body-content mw-content-ltr" lang="de" dir="ltr"><div class="mw-content-ltr mw-parser-output" lang="de" dir="ltr"><p><b>Novolake</b> (fälschlicherweise oft <b>Novolacke</b>) sind <a href="Phenolharz" class="mw-redirect" title="Phenolharz">Phenolharze</a> mit einem <a href="Formaldehyd" title="Formaldehyd">Formaldehyd</a>-<a href="Phenol" title="Phenol">Phenol</a>-Verhältnis kleiner als 1:1. Sie entstehen durch saure Kondensation der Edukte. Novolake sind <a href="Thermoplast" class="mw-redirect" title="Thermoplast">thermoplastisch</a> und können durch Zusätze von Formaldehydspendern wie z. B. <a href="Hexamethylentetramin" title="Hexamethylentetramin">Hexamethylentetramin</a> gehärtet werden.<sup id="cite_ref-1" class="reference"><a href="#cite_note-1"><span class="cite-bracket">[</span>1<span class="cite-bracket">]</span></a></sup> Dies ergibt dann unschmelzbare <a href="Phenoplast" title="Phenoplast">Phenoplaste</a>.

</p>

<p>Kombiniert mit fotosensitiven Substanzen, wie beispielsweise <i>Diazonaphthochinon</i>, werden Novolake in der <a href="Mikroelektronik" title="Mikroelektronik">Mikroelektronik</a> und <a href="Mikromechanik" title="Mikromechanik">Mikromechanik</a> zur <a href="Fotolithografie_(Halbleitertechnik)" title="Fotolithografie (Halbleitertechnik)">Fotolithografie</a> als <a href="Fotolack" title="Fotolack">Fotolack</a> eingesetzt. Nach Belichtung und Entwicklung bleibt eine strukturierte Lackoberfläche übrig, die das <a href="Substrat_(Materialwissenschaft)" title="Substrat (Materialwissenschaft)">Substrat</a> vor dem nächsten Prozessschritt (z. B. <a href="Ionenimplantation" title="Ionenimplantation">Ionenimplantation</a>, galvanisches Aufwachsen von Metall, <a href="Thermische_Oxidation" class="mw-redirect" title="Thermische Oxidation">thermische Oxidation</a>, Ätzen etc.) schützen.

</p><p>Novolake werden in der Regel durch einen <a href="Rotationsbeschichtung" title="Rotationsbeschichtung">Spin Coater</a> auf ein Substrat aufgeschleudert und es können Resistdicken bis hin zu einigen 10 µm pro Belackungsschritt erreicht werden. Für größere <a href="Schichtdicke_(Beschichten)" title="Schichtdicke (Beschichten)">Schichtdicken</a> empfiehlt sich <a href="Polymethylmethacrylat" title="Polymethylmethacrylat">PMMA</a>.

</p>

<div class="mw-heading mw-heading2"><h2 id="Weblinks">Weblinks</h2></div>

<ul><li>Douglas R. Robello: <style data-mw-deduplicate="TemplateStyles:r261891140">

/* start https://de.wikipedia.org/ */

.mw-parser-output .webarchiv-memento a{color:inherit}

/* end https://de.wikipedia.org/ */

</style><a rel="nofollow" class="external text" href="https://web.archive.org/web/20140326103947/http://chem.chem.rochester.edu/~chem421/polymod2.htm"><i>The Chemistry of Photoresists</i></a> (<span class="webarchiv-memento"><a href="Webarchivierung#Begrifflichkeiten" title="Webarchivierung">Memento</a></span> vom 26. März 2014 im <i><a href="Internet_Archive" title="Internet Archive">Internet Archive</a></i>). In: <i>Chem 421: Introduction to Polymer Chemistry.</i> 2002, abgerufen am 21. Mai 2010.</li>

<li>Heinrich Kirchauer: <i><a rel="nofollow" class="external text" href="https://www.iue.tuwien.ac.at/phd/kirchauer/node30.html">Composition of DQN Resist</a>.</i> Institute for Microelectronics, TU Wien, 17. April 1997, abgerufen am 21. Mai 2010.</li></ul>

<div class="mw-heading mw-heading2"><h2 id="Einzelnachweise">Einzelnachweise</h2></div>

<li id="cite_note-1"><span class="mw-cite-backlink"><a href="#cite_ref-1">↑</a></span> <span class="reference-text">Peter Kurzweil: <cite style="font-style:italic">Chemie</cite>. 10. Auflage. Springer Fachmedien, Wiesbaden 2015, ISBN 978-3-658-08660-2, <span style="white-space:nowrap">S.<span style="display:inline-block;width:.2em"> </span>254</span>, <a href="Digital_Object_Identifier" title="Digital Object Identifier">doi</a>:<span class="uri-handle" style="white-space:nowrap"><a rel="nofollow" class="external text" href="https://doi.org/10.1007/978-3-658-08660-2">10.1007/978-3-658-08660-2</a></span>.<span class="Z3988" title="ctx_ver=Z39.88-2004&rft_val_fmt=info%3Aofi%2Ffmt%3Akev%3Amtx%3Abook&rfr_id=info:sid/de.wikipedia.org:Novolak&rft.au=Peter+Kurzweil&rft.btitle=Chemie&rft.date=2015&rft.doi=10.1007%2F978-3-658-08660-2&rft.edition=10&rft.genre=book&rft.isbn=9783658086602&rft.pages=254&rft.place=Wiesbaden&rft.pub=Springer+Fachmedien" style="display:none"> </span></span>

</li>

</ol></div><div><div class="zim-footer">

Dieser Artikel wurde von <a class="external text" title="Zuletzt bearbeitet am 2025-05-13" href="https://de.wikipedia.org/wiki/?title=Novolak&oldid=255972100">Wikipedia</a> herausgegeben. Der Text ist unter <a class="external text" href="https://creativecommons.org/licenses/by-sa/4.0/deed.de">Creative Commons Attribution-Share Alike 4.0</a> verfügbar, sofern nicht anders angegeben. Für die Mediendateien können zusätzliche Bedingungen gelten.

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